SiC的化学机械抛光技术:实现超光滑表面的秘诀

分享到:

碳化硅SiC晶片的化学机械抛光技术是一种先进的表面处理技术,它结合了化学腐蚀和机械研磨的方法,对碳化硅晶片表面进行精细处理,以达到超光滑表面的效果。
碳化硅
 
在化学机械抛光过程中,首先使用化学腐蚀剂对碳化硅晶片表面进行轻度腐蚀,使其形成一层均匀的凹凸不平的表面。然后,通过机械研磨的方式,利用抛光垫和研磨剂对表面进行精细研磨,使表面变得更加平滑。抛光过程中,需要选择适合的化学腐蚀剂和研磨剂,以及控制好抛光温度、压力和时间等参数。同时,为了获得更好的抛光效果,需要采用精密的抛光设备和技术。
 
碳化硅晶片的化学机械抛光技术主要有:传统化学机械抛光技术使用游离磨料对碳化硅晶片进行抛光,具有较高的加工效率和较低的成本;化学机械抛光精抛技术是一种精细化抛光技术,通过优化抛光工艺参数和选择合适的磨料,实现超光滑、无缺陷及无损伤表面的抛光效果,该技术广泛应用于高质量外延层生长的加工过程中;团聚金刚石双面研磨工艺利用团聚金刚石进行研磨,可以获得低粗糙度、高效率的研磨效果。
 
CMP技术使用具有高化学稳定性和低磨削率的抛光液。这些抛光液通常由磨粒、氧化剂、络合剂等组成,通过精细的配方调整,可以控制抛光过程中的化学反应和物理磨损,从而实现高精度的表面处理。CMP技术使用具有高弹性、低摩擦系数和良好耐磨性的抛光垫和抛光头。这些材料可以有效地转移压力,减少表面划痕和不平整度,从而提高表面处理的精度。
 
CMP技术通过控制抛光过程中的工艺参数,如抛光压力、抛光时间、抛光温度等,可以实现高精度的表面处理。同时,通过不断优化抛光工艺,可以进一步提高表面处理的精度和效率。CMP技术采用数字化和智能控制技术,可以精确地控制抛光过程中的各项参数,如磨粒的分布、磨粒的运动轨迹等,从而实现高精度的表面处理。同时,数字化和智能控制技术还可以实时监测抛光过程,及时发现并解决异常情况,保证表面处理的质量和稳定性。
 
继续阅读
IGBT单管性能突破与未来技术探索新动向

IGBT单管性能的提升对系统效率和可靠性至关重要。通过采用新型材料如宽禁带半导体,优化芯片布局、电极设计和封装方式,以及精确控制工作状态,可以有效提高IGBT单管的击穿电压、耐高温性能,降低导通和开关损耗,提高工作效率和稳定性。

IGBT单管技术挑战与优缺点深度解析

IGBT单管作为现代电力系统中的关键电力电子器件,具有高开关速度、低导通压降、高电压承受能力和热稳定性等优点,广泛应用于电动汽车、风力发电、高压直流输电等领域。然而,其制造成本高、性能受温度影响、开关损耗以及需要复杂驱动和保护措施等缺点也不容忽视。

IGBT单管:应用广泛,制程精湛,电力之选!

IGBT单管的制造涉及硅片处理、氮化硅沉积、掺杂处理、介电层沉积、金属化、平坦化以及封装等关键步骤,确保单管的电气性能和稳定性。IGBT单管广泛应用于家用电器和工业控制领域,实现高效电能转换与控制。然而,在大功率应用中,IGBT模块因更高的效率和稳定性而更受欢迎。

ROHM开始提供业界先进的“模拟数字融合控制”电源——LogiCoA™电源解决方案

全球知名半导体制造商ROHM(总部位于日本京都市)面向中小功率(30W~1kW级)的工业设备和消费电子设备,开始提供LogiCoA™电源解决方案,该解决方案能以模拟控制电源*1级别的低功耗和低成本实现与全数字控制电源*2同等的功能。

隧道二极管技术:全球发展及未来探索

隧道二极管作为关键半导体器件,在高速开关、高频振荡等领域发挥重要作用。材料科学、纳米技术的发展将推动其技术革新,实现性能提升。同时,集成化、微型化及智能化发展也是未来重要方向。国际上隧道二极管研究集中在材料优化、制造工艺提升等方面,国内也呈现出蓬勃态势。